Островерх, В. А. - Процесс формирования субмикронного рисунка методом проекционной фотолитографии для изготовления СБИС ЗУ на ЦМД : диссертация ... кандидата технических наук : 05.27.01

Карточка

Островерх, В. А.

Процесс формирования субмикронного рисунка методом проекционной фотолитографии для изготовления СБИС ЗУ на ЦМД : диссертация ... кандидата технических наук : 05.27.01. - Москва, 1993. - 165 с.
Твердотельная электроника, микроэлектроника и наноэлектроника
OD 61 94-0/90-9

Электронный заказ

Marc21

Скачать marc21-запись
Скачать rusmarc-запись

Показать

Описание

Автор
ЗаглавиеПроцесс формирования субмикронного рисунка методом проекционной фотолитографии для изготовления СБИС ЗУ на ЦМД : диссертация ... кандидата технических наук : 05.27.01
Дата поступления в ЭК 24.08.2000
Каталоги Диссертации
Выходные данныеМосква, 1993
Физическое описание165 с.
ТемаТвердотельная электроника, микроэлектроника и наноэлектроника
BBK-кодМ831.011-1,0
Специальность05.27.01: Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах
ЯзыкРусский
Места храненияOD 61 94-0/90-9