Ивин, Владимир Владимирович. - Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 05.27.01. - Москва, 2000. - 146 с.
Карточка
Экспресс-заказ фрагмента
Ивин, Владимир Владимирович.
Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 05.27.01. - Москва, 2000. - 146 с.
Твердотельная электроника, микроэлектроника и наноэлектроника
Шифр хранения:
Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 05.27.01. - Москва, 2000. - 146 с.
Твердотельная электроника, микроэлектроника и наноэлектроника
Шифр хранения:
OD 61 01-1/294
Описание
Автор | Ивин, Владимир Владимирович |
---|---|
Заглавие | Исследование перспективных фотолитографических процессов с суб-0.2 мкм проектными нормами с помощью математического моделирования : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 05.27.01 |
Коллекции ЭК РГБ | Каталог диссертаций |
Коллекции ЭБ РГБ | Диссертации |
Дата поступления в ЭК РГБ | 04.07.2001 |
Дата поступления в ЭБ РГБ | 31.03.2011 |
Каталоги | Диссертации |
Выходные данные | Москва, 2000 |
Физическое описание | 146 с. |
Тема | Твердотельная электроника, микроэлектроника и наноэлектроника |
Специальность | 05.27.01: Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах |
Язык | Русский |
Места хранения | OD 61 01-1/294 |
Электронный адрес | Электронный ресурс |