Applications of plasma processes to VLSI technology

Экспресс-заказ фрагмента
Applications of plasma processes to VLSI technology / Ed. by Takuo Sugano ; Transl. by Hyo - Gun Kim. - New York etc. : Wiley, © 1985. - XIV, 394 с. : ил.; 24 см. - (A Wiley - interscience publ.).; ISBN 0-471-86960-0

(A Wiley - interscience publ.)
Интегральные схемы
Производство
Плазменные методы
Шифр хранения:
FB 5 88-14/26-7
FB 801-88/236-x

Marc21

Скачать marc21-запись

Показать

Описание

ЗаглавиеApplications of plasma processes to VLSI technology
Коллекции ЕЭК РГБ Каталог документов с 1831 по настоящее время
Дата поступления в ЕЭК 22.04.1988
Каталоги Книги (изданные с 1831 г. по настоящее время)
Сведения об ответственностиEd. by Takuo Sugano ; Transl. by Hyo - Gun Kim
Выходные данныеNew York etc. : Wiley, © 1985
Физическое описаниеXIV, 394 с. : ил.; 24 см
Серия(A Wiley - interscience publ.)
ISBNISBN 0-471-86960-0
ТемаИнтегральные схемы
Производство
Плазменные методы
BBK-кодЗ844.15-060.14,0
ЯзыкАнглийский
Места храненияFB 5 88-14/26-7
FB 801-88/236-x